شخصات کلیدی دوره
| مدت دوره
۹ ساعت |
ظرفیت هدف
9 نفر |
محل اجرا
دانشگاه تهران |
تاریخ هدف
۲۷ تیر ۱۴۰۵ |
مسیر یادگیری
| ۱ | ۲ | ۳ |
| آموزش تئوری و مبانی فرایند
آشنایی با ساختار فرایند، مواد، ماسک و اصول انتقال الگو. |
ساخت و انتقال الگو روی ویفر
اجرای عملی پوشش‌دهی، نوردهی، ظهور و اچ مرطوب کروم. |
ارزیابی و تحلیل کیفیت
مشاهده میکروسکوپی، تحلیل عیب و ارزیابی کیفیت الگوی نهایی. |
دامنه فنی دوره
| ✓ | نمونه نهایی: ایجاد یک الگوی قابل مشاهده از کروم (Cr) روی زیرلایه سیلیکونی (Si) با استفاده از فوتورزیست، نوردهی UV، ظهور، اچ مرطوب و حذف فوتورزیست. |
۱. خلاصه اجرایی
این طرح، چارچوب اجرایی برگزاری یک دوره عملی ۸ ساعته فوتولیتوگرافی را ارائه می‌کند. هدف دوره، آشنا کردن دانشجویان و علاقه‌مندان حوزه میکروالکترونیک با مسیر واقعی انتقال الگو در محیط آزمایشگاهی است؛ به‌گونه‌ای که شرکت‌کنندگان در یک تیم کوچک، مراحل اصلی ساخت الگوی روی ویفر سیلیکونی را از آماده‌سازی نمونه تا ارزیابی نهایی تجربه کنند.
دوره بر سه محور «آموزش تئوری و مبانی فرایند»، «ساخت و انتقال الگو روی ویفر» و «ارزیابی و تحلیل کیفیت» بنا شده است.
۲. ضرورت و ارزش پیشنهادی
- فوتولیتوگرافی یکی از پایه‌ای‌ترین مهارت‌های عملی در ساخت ادوات نیمه‌رسانا، MEMS، حسگرها و سامانه‌های میکروالکترونیکی است؛ اما بسیاری از مخاطبان تنها با مبانی نظری آن آشنا هستند.
- این دوره، به عنوان دوره‌ای کوتاه، ساختارمند و نتیجه‌محور می‌تواند فاصله‌ی میان آموزش دانشگاهی و تجربه واقعی کار در آزمایشگاه را کاهش دهد.
۳. اهداف دوره
| ردیف | هدف | خروجی قابل مشاهده |
| ۱ | درک منطق کامل فوتولیتوگرافی و انتقال الگو | توانایی توضیح فرایند از ماسک تا الگوی نهایی |
| ۲ | اجرای عملی مراحل کلیدی در محیط آزمایشگاهی | مشارکت در اسپین‌کوت، پخت نرم، نوردهی، ظهور و اچ |
| ۳ | شناخت رابطه میان پارامترهای فرایند و کیفیت الگو | مشاهده اثر نوردهی، ظهور و اچ نامناسب بر نمونه |
| ۴ | تقویت مهارت کنترل کیفیت اولیه | تحلیل نمونه با میکروسکوپ و ثبت عیب‌ها در فرم گزارش |
۴. ساختار آموزشی و سرفصل‌ها
| بخش | زمان پیشنهادی | محتوای اصلی | خروجی آموزشی |
| آموزش تئوری و مبانی فرایند | ۳ ساعت | ساختار ویفر، فیلم نازک کروم، فوتورزیست مثبت، ماسک، رزولوشن، آلودگی، اصول HSE و مسیر فرایند. | فهم توالی ساخت و علت هر مرحله. |
| ساخت و انتقال الگو روی ویفر | ۳ ساعت | بازرسی اولیه، آب‌زدایی، اسپین‌کوت، پخت نرم، نوردهی UV، ظهور، بازرسی پیش از اچ، اچ مرطوب کروم و حذف فوتورزیست. | ایجاد یک الگوی کروم روی سیلیکون توسط هر گروه. |
| ارزیابی و تحلیل کیفیت | ۲ ساعت | تصویربرداری میکروسکوپی
مقایسه با ماسک اندازه‌گیری تقریبی خطوط شناسایی undercut، باقی‌مانده کروم و چسبندگی ضعیف. |
گزارش کیفیت و تحلیل ریشه‌ای عیب‌ها. |
۵. برنامه زمانی روز برگزاری
| روز اول | |
| زمان | بخش |
| ۰۸:۳۰ تا ۰۹:۰۰ | پذیرش و آماده‌سازی |
| ۰۹:۰۰ تا ۱۰:۳۰ | تئوری |
| ۱۰:۳۰ تا ۱۱:۰۰ | استراحت |
| ۱۱:۰۰ تا ۱۲:۳۰ | تئوری |
| روز دوم | |
| زمان | بخش |
| ۱۳:۰۰ تا ۱۵:۳۰ | عملی |
| ۱۵:۳۰ تا ۱۶:۰۰ | استراحت |
| ۱۶:۰۰ تا ۱۸:۳۰ | عملی |
۶. الزامات اجرایی، تجهیزات و مواد
| دسته | اقلام موردنیاز |
| تجهیزات اصلی | Spin Coater، Hotplate، Mask Aligner / UV Exposure، میکروسکوپ نوری، DI/N₂ و wet bench. |
| نمونه‌ها | ویفر Si با فیلم Cr از پیش‌نشانده‌شده |
| مواد مصرفی | فوتورزیست، developer، محلول اچ Cr، DI Water و مواد شست‌وشو دهنده |
| سایر موارد | دستکش، لباس/کاپور کلین‌روم، دستمال بدون پرز، پنس و ظروف . |
۷. مدل مالی – مبنا و مفروضات
تمام اعداد این بخش به «میلیون تومان» و برای یک نوبت برگزاری ۸ ساعته بیان شده‌اند. مدل پایه بر ظرفیت ۹ شرکت‌کننده، سه گروه سه‌نفره و استفاده از تجهیزات موجود در آزمایشگاه لایه‌نازک دانشگاه تهران تنظیم شده است.
هزینه‌ها بدون مالیات بر ارزش افزوده و بدون هزینه‌های غیرقابل‌پیش‌بینی سازمانی محاسبه شده‌اند.
| مفروضه | مقدار پایه |
| مدت دوره | ۸ ساعت آموزشی در یک روز |
| ظرفیت هدف | ۹ نفر – سه گروه سه‌نفره |
| خروجی عملی | یک نمونه الگو‌دار Cr/Si برای هر گروه |
| قیمت پیشنهادی ثبت‌نام | ۳ میلیون تومان به ازای هر نفر |
۸. برآورد هزینه‌ها
| ردیف | شرح | هزینه (میلیون تومان) |
| ۱ | آماده‌سازی ماسک و تست فرایندها | 3 |
| ۲ | حق‌التدریس | 5 |
| ۳ | کارشناس کلین‌روم / اپراتور فرایند | 5 |
| ۴ | استفاده از تجهیزات و فضای آزمایشگاه | 7 |
| جمع هزینه ثابت | 20 |
| ردیف | شرح | هزینه (میلیون تومان) |
| ۱ | سهم نمونه Cr/Si، آماده‌سازی و نمونه پشتیبان | ۰.۵ |
| ۲ | مواد مصرفی و سایر موارد | ۰.۳ |
| ۳ | پذیرایی | 0.3 |
| جمع متغیر به ازای هر نفر | 1.1 |
۹. جمع‌بندی مالی مدل پایه – ۹ شرکت‌کننده
| ردیف | شرح | هزینه (میلیون تومان) |
| ۱ | هزینه ثابت | 20 |
| ۲ | هزینه متغیر برای ۹ نفر | 9.9 |
| ۳ | کل هزینه برگزاری | 29.9 |
| ۴ | هزینه به ازای هر نفر | 3.32 |
۱۰. درخواست‌های تصمیم‌گیری و تأیید
- تأیید محل اجرا، دسترسی به تجهیزات.
- تأیید تعداد حداکثر 9 شرکت‌کننده و شیوه تشکیل سه گروه سه‌نفره.
- تأیید طراحی/تأمین نمونه‌های Cr/Si و انتخاب ماسک مناسب.
- تأیید قیمت پایه ۳ میلیون تومان یا تعیین میزان حمایت برای کاهش هزینه ثبت‌نام.
- تأیید فرم گواهی حضور، بازخورد و گزارش کیفیت نهایی.
۱۱. جمع‌بندی
این دوره با تمرکز بر تجربه واقعی ساخت الگو، می‌تواند یک نقطه ورود مؤثر و کم‌ریسک به فضای میکروفبریکیشن برای دانشجویان و علاقه‌مندان باشد. انتخاب پروژه ساده «الگو‌دهی Cr روی Si» ضمن داشتن خروجی قابل مشاهده، زمان و هزینه را کنترل می‌کند و امکان آموزش مفاهیم کلیدی فوتولیتوگرافی، کنترل فرایند را در یک روز فراهم می‌سازد.
این دوره، با ظرفیت ۹ نفر در روز و قیمت ۳ میلیون تومان به‌ازای هر نفر، با استفاده از زیرساخت موجود در آزمایشگاه لایه نازک دانشگاه تهران برگزار می‌شود.
برای ارائه قیمت دانشجویی پایین‌تر، ممکن است نیاز به حمایت باشد.
یک تیکت پشتیبانی ارسال کنید یا گفتگوهای قبلی خود را بررسی کنید.
نظرات
هنوز دیدگاهی ثبت نشده است.